ECW-H20133HV está disponible ahora!La tecnología LYNTEAM es el distribuidor de media para ECW-H20133HV, tenemos las acciones de envío inmediato y también disponible para suministro de tiempo durante mucho tiempo.Envíenos su plan de compra para ECW-H20133HV por correo electrónico, le daremos un mejor precio según su plan.
Compre ECW-H20133HV con LYNTEAM, guarde su dinero y tiempo.
Nuestro correo electrónico: [email protected]
ECW-H20133HV
- Número de pieza:
- ECW-H20133HV
- Fabricante:
- Panasonic
- Descripción:
- CAP FILM 0.013UF 3% 2KVDC RADIAL
- Estado sin plomo:
- Sin plomo / Cumple con RoHS
- Cantidad de stock:
- 22670 Pieces
- El tiempo de entrega:
- 1-2 days
- Tiempo de espera:
- 4-8 weeks
- Ficha de datos:
- ECW-H20133HV.pdf
Introducción
Especificaciones
| Condición | New & Original, tested |
|---|---|
| País de origen | Contact us |
| Código de marcado | Send by email |
| Clasificación de voltaje - CC: | 2000V (2kV) |
| Clasificación de voltaje - CA: | - |
| Tolerancia: | ±3% |
| Terminación: | PC Pins |
| Tamaño / Medidas: | 0.906" L x 0.472" W (23.00mm x 12.00mm) |
| Serie: | ECW-H(V) |
| calificaciones: | - |
| embalaje: | Bulk |
| Paquete / Cubierta: | Radial |
| Otros nombres: | ECWH20133HV |
| Temperatura de funcionamiento: | -40°C ~ 105°C |
| Tipo de montaje: | Through Hole |
| Nivel de sensibilidad a la humedad (MSL): | 1 (Unlimited) |
| Tiempo de entrega estándar del fabricante: | 16 Weeks |
| Separación de terminales: | 0.787" (20.00mm) |
| Estado sin plomo / Estado RoHS: | Lead free / RoHS Compliant |
| Altura - Asiento (Máx): | 0.886" (22.50mm) |
| Caracteristicas: | - |
| material dieléctrico: | Polypropylene (PP), Metallized |
| Descripción detallada: | 0.013µF Film Capacitor 2000V (2kV) Polypropylene (PP), Metallized Radial |
| Capacidad: | 0.013µF |
| aplicaciones: | High Frequency, Switching |
| Email: | [email protected] |
partes relacionadas de ECW-H20133HV
| Imagen | Número de pieza | Fabricantes | Descripción | Ver |
|---|---|---|---|---|
 |
ECW-H20152RJV | Panasonic | CAP FILM 1500PF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20132HV | Panasonic Electronic Components | CAP FILM 1300PF 3% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20133RHV | Panasonic | CAP FILM 0.013UF 3% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20132JV | Panasonic | CAP FILM 1300PF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20132HVB | Panasonic | CAP FILM 1300PF 3% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20152RHV | Panasonic | CAP FILM 1500PF 3% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20123JVB | Panasonic | CAP FILM 0.012UF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20132RJV | Panasonic | CAP FILM 1300PF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20132JVB | Panasonic | CAP FILM 1300PF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20123RHV | Panasonic | CAP FILM 0.012UF 3% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20133JV | Panasonic | CAP FILM 0.013UF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20152HV | Panasonic | CAP FILM 1500PF 3% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20132RHV | Panasonic | CAP FILM 1300PF 3% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20133HVB | Panasonic | CAP FILM 0.013UF 3% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20152JVB | Panasonic | CAP FILM 1500PF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20123RJV | Panasonic | CAP FILM 0.012UF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20133JVB | Panasonic | CAP FILM 0.013UF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20152HVB | Panasonic | CAP FILM 1500PF 3% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20123JV | Panasonic | CAP FILM 0.012UF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
|
ECW-H20133RJV | Panasonic | CAP FILM 0.013UF 5% 2KVDC RADIAL | Investigación |
Latest Noticias
- ARM apareció en Computex 2024: se espera que se puedan usar más de 100 mil millones de dispositivos ARM para AI a fines de 2025
- Qorvo lanzó los excelentes preliminares MMIMO de 5G MMIMO de alta gota de alta gana de la industria
- Inventario del ciclo de simulación Totando, AI impulsa la demanda de memoria flash continúa
- Plan de Micron para construir una memoria flash de fábrica, NAND a precios o mantenimiento altos
- El rendimiento de ADI se reduce, los sustratos de aluminio de cobre han aumentado, el almacenamiento de la producción de aumento de la fábrica de fábrica es conservador
- Se acerca la ola de inteligencia en el automóvil, y Aimus Oslang ayudó a Sagita Juguang a liberar el MX LiDAR
- Se excluye la capacidad de producción de HBM, la memoria DRAM puede ser escaso en la segunda mitad del año
- Los fundadores de la pared terminarán, HBM o causarán que Dram se levante nuevamente
- Demanda de expansión de teléfonos móviles y PC de IA, mejora global de la industria de fabricación de semiconductores
- Comprender las necesidades de los sistemas de monitoreo de ADAS y cabina para sensores de imagen de seguridad de red
- Se rumorea que Samsung y Sk Hynix detuvieron DDR3, y la cita de promoción aumentó en un 20 %
- Melexis lanzó MLX90427: control de línea a nuevas opciones, seguros, eficientes y económicos