PMV30UN2VL jest teraz dostępny!Technologia LYNTEAM jest dystrybutorem pończoch dla PMV30UN2VL, mamy zapasy do natychmiastowej wysyłki, a także dostępne przez długi czas dostaw.Prześlij nam swój plan zakupu dla PMV30UN2VL przez e-mail, damy Ci najlepszą cenę zgodnie z planem.
Kup PMV30UN2VL z LYNTEAM, zaoszczędź pieniądze i czas.
Nasz e-mail: [email protected]
PMV30UN2VL
- Part Number:
- PMV30UN2VL
- Producent:
- Nexperia
- Opis:
- MOSFET N-CH 20V 5.4A TO236AB
- Status bezołowiowy:
- Bezołowiowa / zgodna z RoHS
- Wielkość zbiorów:
- 45525 Pieces
- Czas dostawy:
- 1-2 days
- Czas oczekiwania:
- 4-8 weeks
- Arkusz danych:
- PMV30UN2VL.pdf
Wprowadzenie
Specyfikacje
| Stan | New & Original, tested |
|---|---|
| Kraj pochodzenia | Contact us |
| Oznaczenie kodu | Send by email |
| VGS (th) (Max) @ Id: | 900mV @ 250µA |
| Vgs (maks.): | ±12V |
| Technologia: | MOSFET (Metal Oxide) |
| Dostawca urządzeń Pakiet: | TO-236AB |
| Seria: | TrenchMOS™ |
| RDS (Max) @ ID, Vgs: | 32 mOhm @ 4.2A, 4.5V |
| Strata mocy (max): | 490mW (Ta) |
| Package / Case: | TO-236-3, SC-59, SOT-23-3 |
| Inne nazwy: | 934068491235 |
| temperatura robocza: | -55°C ~ 150°C (TJ) |
| Rodzaj mocowania: | Surface Mount |
| Standardowy czas oczekiwania producenta: | 20 Weeks |
| Status bezołowiowy / status RoHS: | Lead free / RoHS Compliant |
| Pojemność wejściowa (Ciss) (maks.) @ Vds: | 655pF @ 10V |
| Opłata bramkowa (Qg) (maksymalna) @ Vgs: | 11nC @ 4.5V |
| Rodzaj FET: | N-Channel |
| Cecha FET: | - |
| Napięcie Napędu (Max Rds On, Min Rds On): | 1.2V, 4.5V |
| Spust do źródła napięcia (Vdss): | 20V |
| szczegółowy opis: | N-Channel 20V 5.4A (Ta) 490mW (Ta) Surface Mount TO-236AB |
| Prąd - Ciągły Odpływ (Id) @ 25 ° C: | 5.4A (Ta) |
| Email: | [email protected] |
Podobne zamienne do PMV30UN2VL
Latest Aktualności
- Ramię pojawiło się w Computex 2024: Oczekuje się, że do końca 2025 r. Można użyć ponad 100 miliardów urządzeń ramionowych
- Qorvo uruchomił wybitne preliminary MmiMo w branży 5G
- Wymaganie inwentaryzacji cyklu symulacji, ai napędza zapotrzebowanie na pamięć flash trwa
- Plan Microna o zbudowaniu fabryki, NAND Flash Memory po wysokich cenach lub konserwacji
- Wydajność ADI jest zmniejszona, podłoża folii miedzianej wzrosły, przechowywanie oryginalnego fabrycznego wzrostu produkcyjnego konserwatywnego
- Fala inteligencji w samochodzie nadchodzi, a Aimus Oslang pomógł Sagita Juguang uwolnić MX Lidar
- Pojemność produkcyjna HBM jest wykluczona, pamięć DRAM może być krótkotrwała w drugiej połowie roku
- Założyciele Wall zakończą się, HBM lub spowodują, że DRAM znów powstanie
- Zapotrzebowanie na telefon komórkowy i komputery PC, globalna poprawa branży produkcji półprzewodników
- Zrozum potrzeby ADA i systemów monitorowania kabiny dla czujników obrazu bezpieczeństwa sieci
- Mówi się, że Samsung i SK Hynix zatrzymali DDR3, a cytat promocyjny wzrósł o 20 %
- Melexis wydany MLX90427: Kontrola linii do nowego wyboru, bezpieczny, wydajny i ekonomiczny