ELHS4H1VSN151MR25S jest teraz dostępny!Technologia LYNTEAM jest dystrybutorem pończoch dla ELHS4H1VSN151MR25S, mamy zapasy do natychmiastowej wysyłki, a także dostępne przez długi czas dostaw.Prześlij nam swój plan zakupu dla ELHS4H1VSN151MR25S przez e-mail, damy Ci najlepszą cenę zgodnie z planem.
Kup ELHS4H1VSN151MR25S z LYNTEAM, zaoszczędź pieniądze i czas.
Nasz e-mail: [email protected]
ELHS4H1VSN151MR25S
- Part Number:
- ELHS4H1VSN151MR25S
- Producent:
- Nippon Chemi-Con
- Opis:
- ALUMINUM ELECTROLYTIC CAPACITORS
- Wielkość zbiorów:
- 27069 Pieces
- Czas dostawy:
- 1-2 days
- Czas oczekiwania:
- 4-8 weeks
- Arkusz danych:
- ELHS4H1VSN151MR25S.pdf
Wprowadzenie
Specyfikacje
| Stan | New & Original, tested |
|---|---|
| Kraj pochodzenia | Contact us |
| Oznaczenie kodu | Send by email |
| Napięcie - znamionowe: | 475V |
| Tolerancja: | ±20% |
| Montaż powierzchniowy Powierzchnia gruntu: | - |
| Rozmiar / Wymiar: | 1.181" Dia (30.00mm) |
| Seria: | LHS |
| Ripple Current @ Low Frequency: | 1.01A @ 120Hz |
| Ripple Current @ High Frequency: | 1.4443A @ 50kHz |
| oceny: | - |
| Polaryzacja: | Polar |
| Opakowania: | - |
| Package / Case: | Radial, Can - Snap-In |
| temperatura robocza: | -25°C ~ 105°C |
| Rodzaj mocowania: | Through Hole |
| Standardowy czas oczekiwania producenta: | 16 Weeks |
| Żywotność @ Temp.: | 5000 Hrs @ 105°C |
| Główny odstęp: | 0.394" (10.00mm) |
| Wysokość - Siedzą (Max): | 1.083" (27.50mm) |
| ESR (Equivalent Series Resistance): | - |
| szczegółowy opis: | 150µF 475V Aluminum Electrolytic Capacitors Radial, Can - Snap-In 5000 Hrs @ 105°C |
| Pojemność: | 150µF |
| Aplikacje: | General Purpose |
| Email: | [email protected] |
Podobne zamienne do ELHS4H1VSN151MR25S
Latest Aktualności
- Plan Microna o zbudowaniu fabryki, NAND Flash Memory po wysokich cenach lub konserwacji
- Wydajność ADI jest zmniejszona, podłoża folii miedzianej wzrosły, przechowywanie oryginalnego fabrycznego wzrostu produkcyjnego konserwatywnego
- Fala inteligencji w samochodzie nadchodzi, a Aimus Oslang pomógł Sagita Juguang uwolnić MX Lidar
- Pojemność produkcyjna HBM jest wykluczona, pamięć DRAM może być krótkotrwała w drugiej połowie roku
- Założyciele Wall zakończą się, HBM lub spowodują, że DRAM znów powstanie
- Zapotrzebowanie na telefon komórkowy i komputery PC, globalna poprawa branży produkcji półprzewodników
- Zrozum potrzeby ADA i systemów monitorowania kabiny dla czujników obrazu bezpieczeństwa sieci
- Mówi się, że Samsung i SK Hynix zatrzymali DDR3, a cytat promocyjny wzrósł o 20 %
- Melexis wydany MLX90427: Kontrola linii do nowego wyboru, bezpieczny, wydajny i ekonomiczny
- Ogłoszono raport finansowy NXP i Ansonmei, a cena cen miedzi jest przekazywana do branży IC
- Moels Micro Electronics założył nowe biura na Tajwanie w Chinach, aby rozszerzyć terytorium biznesowe
- Wydajność Instrumentów Texas ma być jeszcze do zwiększenia, a dwie fabryki pamięci masowej pchają nowe produkty pamięci flash